MoneyDJ新聞 2024-12-26 08:41:51 記者 蔡承啟 報導
日本政府傳出計劃對官民合作設立的晶圓代工廠Rapidus出資1,000億日圓，而Rapidus將利用籌得的資金追加採購生產先進晶片所必需的極紫外光(EUV)微影設備。
共同通信25日報導，日本政府已敲定方針、計劃在2025年下半年對Rapidus出資1,000億日圓。Rapidus預估將從現有股東、新股東籌措約1,000億日圓資金，而日本政府的出資額規模將同於民間資金，Rapidus計劃利用籌得的資金、追加採購生產先進晶片所必需的EUV微影設備。
報導指出，日本經濟產業省在25日的專家會議上出示了對Rapidus等半導體產業提供援助的修正法案概要，目標在2025年初的例行國會上提交該修正法案，可讓經濟產業省轄下的「獨立行政法人情報處理推進機構(IPA)」能夠對企業進行出資、提供貸款擔保等援助。
Rapidus目標在2027年量產2奈米(nm)晶片，位於北海道千歲市的第一座工廠「IIM-1」於2023年9月動工，試產產線計畫在2025年4月啟用、2027年開始進行量產。
朝日新聞11月27日報導，日本政府在今年度補充預算案中、編列一筆1.6兆日圓的預算用於援助半導體/AI產業，其中日本政府據悉將對目標量產2奈米的Rapidus追加補助8,000億日圓。為了實現2027年量產2奈米晶片的計畫、Rapidus預估需要約5兆日圓資金，而日本政府雖已決定對Rapidus援助9,200億日圓，不過仍有約4兆日圓的資金缺口，而在此次的補充預算中、日本政府將對Rapidus提供追加補助金，用於作爲研發費以及當前的營運資金。
Rapidus 12月18日宣布，荷蘭ASML所生產的EUV微影設備已在當日搬入興建中、用來生產及研發最先進晶片(2奈米晶片)的北海道工廠「IIM-1」、並開始進行安裝作業。這將是日本國內第1台用於量產最先進晶片的EUV設備，而「IIM-1」為了實現2奈米量產計畫，今後以EUV設備為首、將導入眾多晶片製造設備以及運送系統。
日媒報導，在2奈米晶片的量產上、台積電居於領先，而Rapidus社長小池淳義12月18日表示，「在製程速度上有優勢，良率和性能能夠儘早趕上(台積電)」。
關於(2奈米晶片)客戶獲取情況，小池淳義10月3日在千歲市舉行的記者會上表示，「除了已公開的企業外、正和40家進行交涉。明年以後、將能夠對外說明」。
輝達(Nvidia)執行長黃仁勳11月13日暗示、未來可能會考慮找Rapidus代工生產AI晶片。黃仁勳表示，供應需多元化、且對Rapidus有信心。
Rapidus社長小池淳義10月24日表示，若2奈米晶片量產順利的話，將興建第2座廠、「計劃生產1.4奈米晶片」。
(圖片來源：Rapidus)
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